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影響氧化還原電位的主要因素有哪些?
更新時間:2020-05-20 點擊次數(shù):4344
 
  氧化還原電位計就是用來反映水溶液中所有物質(zhì)表現(xiàn)出來的宏觀氧化-還原性設計的儀器。
  氧化還原電位計是測試溶液氧化還原電位的儀器,由復合電極和mv計組成。復合電極是一種可以在其敏感層表面進行電子吸收或釋放的電極,該敏感層是一種惰性金屬,通常是用鉑和金來制作。參比電極是和pH電極一樣的銀/氯化銀電極。其中毫伏計也就是二次儀表與pH計的可通用。
  影響氧化還原電位的主要因素包括以下幾個方面。
  1)物質(zhì)質(zhì)量分數(shù)。在氧化還原反應過程中,電位與反應同步變化、進行。從還原反應方面分析,氧化態(tài)物質(zhì)與還原態(tài)物質(zhì)的活度狀態(tài)分別是變小和變大,因此電位的變化狀態(tài)是由高至低,氧化反應方面過程則相反。實際上,廢水中污染較為嚴重的成分質(zhì)量分數(shù)較低,基本接近離子活度,通常情況下可直接用濃度表示氧化態(tài)和還原態(tài)物質(zhì)的活度[2]。
  2)酸堿度(pH值)。氫離子與氫氧根離子均參與方程式反應,兩者分別對應的是還原與氧化反應,各自所對應的污染物是六價鉻。因此,當pH值產(chǎn)生變化時必然也會影響電位。
  3)其他復雜電對。電鍍工業(yè)廢水由多種成分構成,不同的電對會以混合電位的形式存在。因此如果廢水中包含除主要污染物之外的其他氧化還原
  成分,整個反應體系反應過程會變十分復雜,電位的檢測結果同一般能斯特方程規(guī)律也會不盡相符,在具體反應的過程中應根據(jù)實際情況加以嚴格修正。

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